The MESA+ Institute will invest in a two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin film technology and processing capacity.
Applications
Low-temperature deposition of pinhole-free, low stress, conformal thin films.
Moderate-temperature deposition of low stress thin films.
Deadline
De termijn voor de ontvangst van de offertes was 2023-07-25.
De aanbesteding werd gepubliceerd op 2023-06-08.
Object Toepassingsgebied van de aanbesteding
Titel: System for Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
EB-OUT 5934
Producten/diensten: Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen)📦
Korte beschrijving:
“The MESA+ Institute will invest in a two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin...”
Korte beschrijving
The MESA+ Institute will invest in a two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin film technology and processing capacity.
Applications
Low-temperature deposition of pinhole-free, low stress, conformal thin films.
Moderate-temperature deposition of low stress thin films.
1️⃣
Plaats van uitvoering: Nederland🏙️
Plaats van uitvoering: Overijssel🏙️
Beschrijving van de aanbesteding: https://www.creatifwerks.com/helium-quantity-conversions-calculator/ Gunningscriteria
Kwaliteitscriterium (naam): Wishes
Kwaliteitscriterium (weging): 8
Kwaliteitscriterium (naam): Acceptance Test
Kwaliteitscriterium (weging): 100
Prijs (weging): 47
Duur van de opdracht, raamovereenkomst of dynamisch aankoopsysteem
Het onderstaande tijdschema is uitgedrukt in aantal maanden.
Beschrijving
Duur: 12
Juridische, economische, financiële en technische informatie Economische en financiële draagkracht
Selectiecriteria zoals vermeld in de aanbestedingsdocumenten
Technische en professionele bekwaamheid
Selectiecriteria zoals vermeld in de aanbestedingsdocumenten
Procedure Soort procedure
Open procedure
Administratieve informatie
Termijn voor de ontvangst van inschrijvingen of verzoeken tot deelneming: 2023-07-25
12:00 📅
Talen waarin inschrijvingen of aanvragen tot deelneming kunnen worden ingediend: Engels 🗣️
Voorwaarden voor de opening van de offertes: 2023-07-25
12:00 📅
Aanvullende informatie Beoordelingsorgaan
Naam: Rechtbank Overijssel
Poststad: Zwolle
Land: Nederland 🇳🇱 Herzieningsprocedure
Precieze informatie over de termijn(en) voor herzieningsprocedures:
“Opening of the Tenders 25 July 2023 12:30 pm
Invitation acceptance test 01 August 2023
Acceptance test August – September 2023
Intention to Award the...”
Precieze informatie over de termijn(en) voor herzieningsprocedures
Opening of the Tenders 25 July 2023 12:30 pm
Invitation acceptance test 01 August 2023
Acceptance test August – September 2023
Intention to Award the Contract 03 October 2023
Final Award 24 October 2023
Toon meer
Bron: OJS 2023/S 112-351658 (2023-06-08)
Award Aankondiging (2023-07-12) Aanbestedende dienst Naam en adressen
Contactpersoon: Camilio Delfgaauw
Telefoon: +31 534891512📞
E-mail: c.delfgaauw@utwente.nl📧
Object Beschrijving
Beschrijving van de aanbesteding:
“The MESA+ Institute will invest in a two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin...”
Beschrijving van de aanbesteding
The MESA+ Institute will invest in a two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin film technology and processing capacity.
Applications
Low-temperature deposition of pinhole-free, low stress, conformal thin films.
Moderate-temperature deposition of low stress thin films.
Toon meer Gunningscriteria
Kwaliteitscriterium (naam): Schedule of Requirements and wishes
Kwaliteitscriterium (naam): Acceptance test
Kostencriterium (naam): Price
Kostencriterium (weging): 47
Procedure Administratieve informatie
Eerdere publicatie betreffende deze procedure: 2023/S 112-351658
Gunning van het contract
1️⃣ Informatie over niet-toekenning
Andere redenen (stopzetting van de procedure)