The Product should coat layers with high uniformity and structures with high aspect ratios. It should be possible to tune the optical properties, density and stress in the films by adjusting deposition parameters. The The The Product should be capable of depositing the following materials: Al2O3, TiO2, ZnO, In2O3, SnO2, NiOx, SiO2 and HfO2, with the option to easily switch to different materials, such as nitrides like AlN and TiN and metallic layers like Pt and Ru. 1 plasma enhanced atomic disposition system
Deadline
De termijn voor de ontvangst van de offertes was 2024-11-08.
De aanbesteding werd gepubliceerd op 2024-09-23.
Aankondiging van een opdracht (2024-09-23) Object Toepassingsgebied van de aanbesteding
Titel: Plasma Enhanced Atomatic Deposition System
Korte beschrijving:
“The Product should coat layers with high uniformity and structures with high aspect ratios. It should be possible to tune the optical properties, density...”
Korte beschrijving
The Product should coat layers with high uniformity and structures with high aspect ratios. It should be possible to tune the optical properties, density and stress in the films by adjusting deposition parameters. The The The Product should be capable of depositing the following materials: Al2O3, TiO2, ZnO, In2O3, SnO2, NiOx, SiO2 and HfO2, with the option to easily switch to different materials, such as nitrides like AlN and TiN and metallic layers like Pt and Ru. 1 plasma enhanced atomic disposition system
Toon meer
Soort contract: Leveringen
Producten/diensten: Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen)📦
Geschatte waarde exclusief BTW: 550000.0 EUR 💰
Beschrijving
Beschrijving van de aanbesteding:
“The Product should coat layers with high uniformity and structures with high aspect ratios. It should be possible to tune the optical properties, density...”
Beschrijving van de aanbesteding
The Product should coat layers with high uniformity and structures with high aspect ratios. It should be possible to tune the optical properties, density and stress in the films by adjusting deposition parameters. The Product should be capable of depositing the following materials: Al2O3, TiO2, ZnO, In2O3, SnO2, NiOx, SiO2 and HfO2, with the option to easily switch to different materials, such as nitrides like AlN and TiN and metallic layers like Pt and Ru. ! stuks
Toon meer
Hoofdlocatie of plaats van uitvoering:
“Amsterdam”
Duur: 60 (MONTH)
Het onderstaande tijdschema is uitgedrukt in aantal maanden.
Gunningscriteria
Kwaliteitscriterium (naam): Quality criteria to be assessed
Kwaliteitscriterium (weging): 1
Prijs ✅
Prijs (weging): 1
Titel
Identificatienummer van de partij: LOT-0000
Procedure Soort procedure
Open procedure ✅ Administratieve informatie
Termijn voor de ontvangst van inschrijvingen of verzoeken tot deelneming: 2024-11-08 12:00:00 📅
Voorwaarden voor de opening van de offertes: 2024-11-08 12:15:00 📅
Talen waarin inschrijvingen of aanvragen tot deelneming kunnen worden ingediend: Engels 🗣️
Talen waarin inschrijvingen of aanvragen tot deelneming kunnen worden ingediend: Nederlands 🗣️
Minimumtermijn gedurende welke de inschrijver de offerte gestand moet doen: 104
Juridische, economische, financiële en technische informatie Voorwaarden voor deelname
Lijst en korte beschrijving van aandoeningen:
“E1 Ground for exclusion: None of the grounds for exclusionapply to Tenderer”