New IBE-RIBE tool MESA+ NanoLab

Universiteit Twente

he MESA+ Institute for Nanotechnology will invest in a new ion beam etch tool (IBE/RIBE) to reinforce their state-of-the-art etch capabilities. The tool will be used for etching thin films in the platforms: electronics, MEMS, fluidics, optics and 3-D nano-shaping. The tool must be equipped with a RF-ICP plasma source and a SIMS end-point detection to enable an accurate pattern transfer at micro (nano) scale in metals, dielectric materials, and organic materials.
The tool must be capable to demonstrate a large process (etch) window, which is controlled by the tilt angle of the substrate holder, the rotation speed, the beam energy and the gases argon, oxygen, and nitrogen. The tool must be able to etch at low energies (i.e., < 60 eV beam energy) without losing its uniformity. The tool must be capable to run 100 mm and 150 mm wafers.

Deadline

De termijn voor de ontvangst van de offertes was 2022-09-28. De aanbesteding werd gepubliceerd op 2022-08-10.

Leveranciers

De volgende leveranciers worden genoemd in gunningsbesluiten of andere aanbestedingsdocumenten:

Wie? Wat? Waar?
Aankoopgeschiedenis
Datum Document
2022-08-10 Aankondiging van een opdracht
2022-11-28 Award Aankondiging
Aankondiging van een opdracht (2022-08-10)
Object
Toepassingsgebied van de aanbesteding
Titel: Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen)
Referentienummer: EB 0ut 5579
Korte beschrijving:
he MESA+ Institute for Nanotechnology will invest in a new ion beam etch tool (IBE/RIBE) to reinforce their state-of-the-art etch capabilities. The tool will be used for etching thin films in the platforms: electronics, MEMS, fluidics, optics and 3-D nano-shaping. The tool must be equipped with a RF-ICP plasma source and a SIMS end-point detection to enable an accurate pattern transfer at micro (nano) scale in metals, dielectric materials, and organic materials. The tool must be capable to demonstrate a large process (etch) window, which is controlled by the tilt angle of the substrate holder, the rotation speed, the beam energy and the gases argon, oxygen, and nitrogen. The tool must be able to etch at low energies (i.e., < 60 eV beam energy) without losing its uniformity. The tool must be capable to run 100 mm and 150 mm wafers.
Toon meer
Aankondigingsmetadata
Originele taal: Engels ๐Ÿ—ฃ๏ธ
Documenttype: Aankondiging van een opdracht
Aard van de opdracht: Leveringen
Regelgeving: Europese Unie
Gemeenschappelijke woordenlijst overheidsopdrachten (CPV)
Code: Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen) ๐Ÿ“ฆ
Aanvullende CPV-code: Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen) ๐Ÿ“ฆ
Plaats van uitvoering
NUTS-regio: Nederland ๐Ÿ™๏ธ

Procedure
Type procedure: Openbare procedure
Type bod: Inschrijving voor alle percelen
Gunningscriteria
Uit economisch oogpunt voordeligste inschrijving

Aanbestedende dienst
Identiteit
Land: Nederland ๐Ÿ‡ณ๐Ÿ‡ฑ
Type aanbestedende dienst: Publiekrechtelijke instelling
Naam aanbestedende dienst: Universiteit Twente
Postadres: Drienerlolaan 5
Postcode: 7522NB
Poststad: Enschede
Contact
Internetadres: http://www.utwente.nl ๐ŸŒ
E-mail: r.h.belt@utwente.nl ๐Ÿ“ง
Telefoon: +31 534896741 ๐Ÿ“ž
URL van de documenten: https://hub.negometrix.com/today/22148 ๐ŸŒ
URL voor deelname: https://hub.negometrix.com/today/22148 ๐ŸŒ

Referentie
Datums
Verzenddatum: 2022-08-10 ๐Ÿ“…
Indieningstermijn: 2022-09-28 ๐Ÿ“…
Publicatiedatum: 2022-08-12 ๐Ÿ“…
Startdatum: 2022-11-01 ๐Ÿ“…
Einddatum: 2023-11-01 ๐Ÿ“…
Identificatoren
Aankondigingsnummer: 2022/S 155-440644
PB-S nummer: 155

Object
Toepassingsgebied van de aanbesteding
Korte beschrijving:
he MESA+ Institute for Nanotechnology will invest in a new ion beam etch tool (IBE/RIBE) to reinforce their state-of-the-art etch capabilities. The tool will be used for etching thin films in the platforms: electronics, MEMS, fluidics, optics and 3-D nano-shaping. The tool must be equipped with a RF-ICP plasma source and a SIMS end-point detection to enable an accurate pattern transfer at micro (nano) scale in metals, dielectric materials, and organic materials.
Toon meer
The tool must be capable to demonstrate a large process (etch) window, which is controlled by the tilt angle of the substrate holder, the rotation speed, the beam energy and the gases argon, oxygen, and nitrogen. The tool must be able to etch at low energies (i.e., < 60 eV beam energy) without losing its uniformity. The tool must be capable to run 100 mm and 150 mm wafers.
Toon meer
Geschatte totale waarde: 1 200 000 EUR ๐Ÿ’ฐ
Korte beschrijving:
The object of this public Invitation to Tender by the Contracting Party is to award the Contract to one (1) Contracted Party. The intended commencement date of the Agreement is after successful acceptance test.
Given the nature and estimated scope of the Contract, the Contracting Party follows a European public tendering procedure in accordance with the Public Procurement Act. The public procedure means that the qualification and awarding process take place in a single phase, albeit that various actions are undertaken within this procedure (such as a verification of the non-applicability of the Grounds for Exclusion, compliance with the Eligibility Requirements, a verification if the Tender complies with the requirements and an assessment of the Tenders on the basis of the Award Criteria).
Toon meer
The purpose of this public procurement procedure of Contracting Party is to award the Contract to one supplier, taking effect after successful acceptance tests.
The Award Criterion for this tendering procedure is: the best price/quality ratio
Geschatte waarde exclusief BTW: 1 200 000 EUR ๐Ÿ’ฐ
Plaats van uitvoering
Hoofdlocatie of plaats van uitvoering: Enschede

Juridische, economische, financiรซle en technische informatie
Voorwaarden voor deelname
Geschiktheid om de beroepsactiviteit uit te oefenen: See ESPD. as stated in the procurement documents
Uitvoering van de opdracht
Voorwaarden voor de uitvoering van het contract: As stated in the procurement documents

Procedure
Rechtsgrondslag: 32014L0024
Tijdstip van ontvangst van inschrijvingen: 12:00
Talen waarin inschrijvingen of aanvragen tot deelneming kunnen worden ingediend: Engels ๐Ÿ—ฃ๏ธ
Geldigheidsduur van de inschrijving: 2023-06-01 ๐Ÿ“…
Datum opening inschrijvingen: 2022-09-28 ๐Ÿ“…
Tijdstip van opening inschrijvingen: 12:30
Plaats: Enschede

Aanbestedende dienst
Identiteit
Nationaal registratienummer: 50130536
Contact
Contactpunt: Renรฉ Belt
Internetadres: www.utwente.nl ๐ŸŒ
Adres van het kopersprofiel: https://hub.negometrix.com/buyer/16033 ๐ŸŒ
Documenten URL: https://hub.negometrix.com/today/22148 ๐ŸŒ

Aanvullende informatie
Beoordelingsorgaan
Naam: University of Twente
Postadres: Postbus 217
Poststad: Enschede
Postcode: 7500 AE
Land: Nederland ๐Ÿ‡ณ๐Ÿ‡ฑ
Telefoon: +31 534896741 ๐Ÿ“ž
E-mail: r.h.belt@utwente.nl ๐Ÿ“ง
Internetadres: www.utwente.nl ๐ŸŒ
Informatie over termijnen voor beroep: See as stated in the procurement documents
Voor bemiddelingsprocedures verantwoordelijke instantie
Zelfde als: Beoordelingsorgaan
Bron: OJS 2022/S 155-440644 (2022-08-10)
Award Aankondiging (2022-11-28)
Object
Toepassingsgebied van de aanbesteding
Referentienummer: EB out 5579
Korte beschrijving: levering van een New IBE-RIBE tool voor MESA+ NanoLab UT.
Totale waarde van de aanbesteding: 1 100 000 EUR ๐Ÿ’ฐ
Aankondigingsmetadata
Originele taal: Nederlands ๐Ÿ—ฃ๏ธ
Documenttype: Award Aankondiging

Procedure
Type bod: Niet van toepassing
Gunningscriteria
Laagste prijs

Aanbestedende dienst
Contact
Telefoon: +31 616517311 ๐Ÿ“ž

Referentie
Datums
Verzenddatum: 2022-11-28 ๐Ÿ“…
Publicatiedatum: 2022-12-02 ๐Ÿ“…
Identificatoren
Aankondigingsnummer: 2022/S 233-667993
Verwijst naar aankondiging: 2022/S 155-440644
PB-S nummer: 233
Aanvullende informatie
Op basis van pakket van eisen wordt de opdracht gegund aan de inschrijver met de laagste

Object
Toepassingsgebied van de aanbesteding
Korte beschrijving: levering van een New IBE-RIBE tool bestemd voor MESA+ NanoLab UT.
Aanvullende informatie:
Op basis van pakket van eisen wordt de opdracht gegund aan de inschrijver met de laagste

Gunning van het contract
Datum van sluiting van de overeenkomst: 2022-11-22 ๐Ÿ“…
Naam: Oxford Instruments GmbH
Nationaal registratienummer: hrb21599
Postadres: Borsigstr. 15A
Poststad: Wiesbaden
Postcode: 65205
Land: Duitsland ๐Ÿ‡ฉ๐Ÿ‡ช
Totale waarde van de aanbesteding: 1 100 000 EUR ๐Ÿ’ฐ
Informatie over aanbestedingen
Aantal ontvangen offertes: 2

Aanbestedende dienst
Contact
Adres van het kopersprofiel: https://s2c.mercell.com/buyer/16033 ๐ŸŒ

Aanvullende informatie
Beoordelingsorgaan
Naam: Universiteit Twente
Postadres: postbus 217
Poststad: enschede
E-mail: klachtenmeldpuntcfm@utwente.nl ๐Ÿ“ง
Bron: OJS 2022/S 233-667993 (2022-11-28)